キセノン高純度ガス 5n 47L G5/8 Cga580 高品質 Xe ガス

基本情報

密度	3.736kg/立方メートル
外観	無色、無臭
分子量	4.0026
輸送パッケージ	ガスシリンダー/ISOタンク
仕様	10L～50L
商標	ヤンセン
起源	濰坊市
HSコード	28042900
生産能力	5000M3/年

製品説明

Xeガス 基本情報
仕様:ドットクラス:2.2状態:ガス純度:99.999%UN NO:UN2036CAS NO:7740-63-3グレード標準:工業グレード
製品説明：
キセノンガスは無臭、無色、無味、無毒、単原子で化学的に不活性です。 キセノン ガスは主に、エキシマ レーザー、電球、窓断熱、イオン推進、医療用途、研究開発研究所の研究などに気体の状態で輸送され、使用されます。 パッケージは4L～50Lシリンダーです。

使用方法 典型的なアプリケーション:

半導体プロセスでは:

キセノンは、医療用、電球、電子レーザー、エキシマ レーザー、およびイオン推進に使用されます。 タンタルは分子量が高く、ガラスシート間の対流による熱損失を減らすために窓の断熱材として使用されます。電子産業では:

キセノンの光のスペクトルは、ネオンやクリプトンよりもはるかに広いです。 高輝度のため、高輝度航空ランプ、自動車の高効率白熱電球、プラズマディスプレイパネル、手術室、UVレーザーなどに使用されています。

用途: 1.半導体プロセスでは、キセノンは医療用レーザー、電球レーザー、電子レーザー、エキシマレーザー、およびイオン推進に使用されます。 タンタルは分子量が高く、ガラス板間の対流による熱損失を減らすための窓断熱材として使用されます。 2.電子産業において キセノンの光スペクトルはネオンやクリプトンよりもはるかに広いです。 高輝度のため、高輝度航空ランプ、自動車の高効率白熱電球、プラズマディスプレイパネル、手術室、UVレーザーなどに使用されています。

発送日：

使用法	代表的な用途
半導体プロセスでは	キセノンは、電球、電子レーザー、エキシマレーザー、およびイオン推進に使用されます。 タンタルは分子量が高く、ガラスシート間の対流による熱損失を減らすための窓断熱材として使用されます。
電子産業では	キセノンの光のスペクトルは、ネオンやクリプトンよりもはるかに広いです。 高輝度のため、高輝度航空ランプ、自動車の高効率白熱電球、プラズマディスプレイパネル、手術室、UVレーザーなどに使用されています。